「酸化膜」とは一般的な言い方であり、特にシリコン酸化膜と言及することもあります。これはシリコン（Si）と酸素（O2）から形成される化合物（SiO2）であり、その特性として極めて安定していることが挙げられます。主に、ICのMOSトランジスタ内部に存在するゲート絶縁膜といった部分や、他多くの場所で役立つ存在として活用されています。
「酸化膜」とは一般的な言い方であり、特にシリコン酸化膜と言及することもあります。これはシリコン（Si）と酸素（O2）から形成される化合物（SiO2）であり、その特性として極めて安定していることが挙げられます。主に、ICのMOSトランジスタ内部に存在するゲート絶縁膜といった部分や、他多くの場所で役立つ存在として活用されています。
