半導体の表面に熱処理やイオン射入を施すことで不純物原子を混入し、これにより深さをもとに濃度の異なる層（p型やn型）が生成されます。この形成された層は拡散層と呼ばれています。拡散層内部の不純物原子濃度は一定でなく、層の内部に入るほどその濃度は薄れていきます。この性質から拡散層の品質評価には、表面濃度（シート抵抗）や拡散層の深度を指標とし、評価が行われています。拡散層はICの中では抵抗体や配線などに活用されている部分でもあります。
半導体の表面に熱処理やイオン射入を施すことで不純物原子を混入し、これにより深さをもとに濃度の異なる層（p型やn型）が生成されます。この形成された層は拡散層と呼ばれています。拡散層内部の不純物原子濃度は一定でなく、層の内部に入るほどその濃度は薄れていきます。この性質から拡散層の品質評価には、表面濃度（シート抵抗）や拡散層の深度を指標とし、評価が行われています。拡散層はICの中では抵抗体や配線などに活用されている部分でもあります。
