ICにおいては、絶縁体はほとんど同様に用いられます。ICで主に使用される誘電体としては、シリコン酸化膜(SiO2)やシリコン窒化膜(Si3N4)が挙げられます。また、このような誘電体はコンデンサの主成分ともなっています。

ICにおいては、絶縁体はほとんど同様に用いられます。ICで主に使用される誘電体としては、シリコン酸化膜(SiO2)やシリコン窒化膜(Si3N4)が挙げられます。また、このような誘電体はコンデンサの主成分ともなっています。
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